11.创建一个新图层，命名为“sun blast”。在“Extrusion base”处，创建剪贴蒙版，＃AD8144，在字母的两侧画。注意透明度。
12.这时候添加高光，给Sun blast添加蒙版，然后画笔降低透明度，流量，在蒙版处擦拭，效果如图所示。
13.改变混合模式[1]，柔光。
第46步
.添加额外的阴影上的字母
1.创建一个新层在“S end”层之上，并称之为“S SH”。创建剪贴蒙版。改变其模式为正片叠底，绘制更柔和的阴影。
2.添加另一个图层，命名为“S SH dark”，并改变其混合模式为正片叠底。较深的棕色，绘制阴影，如图。
3.现在创建一个图层”Shadow Low”在”Front base”之上，正片叠底，并绘制阴影。
4.新建，命名”T Sh”，正片叠底，多边形套索（L）。
5.如图，画出阴影。注意，阴影的深度，分三次画出来，最深，深，较浅。
6.创建另一个阴影层“S SH”设置为正片叠底，使与选择多边形套索（L），绘制步骤同上。别忘了剪切蒙版。
7.创建另一个阴影层“S Sh”，剪切蒙版，如图做出选区。用棕色的填充。
8.将选区，去滤镜>模糊>高斯模糊，并设置其半径为4.8像素。
9.设置该图层的混合模式为正片叠底。
10.添加另一层“S SH top”设置为正片叠底，边形套索（L），画影子。
11.添加另一层“V SH”设置的正片叠底，画出影子。
12.同理，给R添加阴影，命名为“R SH”
13.添加图层“A SH”，同理，绘制阴影，如图
14.添加另一层“H SH”，同理。
