11.创建一个新图层,命名为“sun blast”。在“Extrusion base”处,创建剪贴蒙版,#AD8144,在字母的两侧画。注意透明度。
12.这时候添加高光,给Sun blast添加蒙版,然后画笔降低透明度,流量,在蒙版处擦拭,效果如图所示。
13.改变混合模式[1],柔光。
第46步
.添加额外的阴影上的字母
1.创建一个新层在“S end”层之上,并称之为“S SH”。创建剪贴蒙版。改变其模式为正片叠底,绘制更柔和的阴影。
2.添加另一个图层,命名为“S SH dark”,并改变其混合模式为正片叠底。较深的棕色,绘制阴影,如图。
3.现在创建一个图层”Shadow Low”在”Front base”之上,正片叠底,并绘制阴影。
4.新建,命名”T Sh”,正片叠底,多边形套索(L)。
5.如图,画出阴影。注意,阴影的深度,分三次画出来,最深,深,较浅。
6.创建另一个阴影层“S SH”设置为正片叠底,使与选择多边形套索(L),绘制步骤同上。别忘了剪切蒙版。
7.创建另一个阴影层“S Sh”,剪切蒙版,如图做出选区。用棕色的填充。
8.将选区,去滤镜>模糊>高斯模糊,并设置其半径为4.8像素。
9.设置该图层的混合模式为正片叠底。
10.添加另一层“S SH top”设置为正片叠底,边形套索(L),画影子。
11.添加另一层“V SH”设置的正片叠底,画出影子。
12.同理,给R添加阴影,命名为“R SH”
13.添加图层“A SH”,同理,绘制阴影,如图
14.添加另一层“H SH”,同理。